Стало известно, что ученые Института прикладной физики РАН сейчас ведут разработку отечественной литографической установки по производству микрочипов, которая будет соответствовать передовым технологическим нормам. Уже готов первый прототип, сообщают CNews.

Пока что Россия способна массово выпускать полупроводники в лучшем случае по 65-нм техпроцессу, но чаще в производстве находятся 90-нанометровые изделия. Оно и понятно, на эту отрасль акцента никогда не было.

Хоть первый прототип и готов, специалисты института сообщили, что полноценное промышленное оборудование по выпуску чипов по 7-нм техпроцессу (и более тонкого) будет создаваться в три этапа, на которые уйдет около шести лет.

Так, к 2024 году они планируют представить “альфа-машину”. Это будет установка представленная в виде рабочего оборудования с возможностью выполнения всего цикла производственных операций, а также полной реализацией всех необходимых систем.

Далее, уже к 2026 году выйдет “бета-машина”. Там уже все системы и компоненты будут доработаны, улучшены и максимально автоматизированы. Эту установку планируют задействовать на крупных производствах и в реальных техпроцессах. Такой подход позволит полностью отладить выпуск микрочипов на данном оборудовании.

И на заключительном этапе разработки, который рассчитан на период с 2026 по 2028 годы, российское литографическое оборудование оснастят более мощным источником излучения, он будет доработан системами позиционирования, а также подачи.

Источник статьи: www.ferra.ru